產(chǎn)品用途

2025年7月新品發(fā)布----MIKASA米卡薩的MS - B100旋涂機(jī)在光刻處理等領(lǐng)域有著重要的用途。它主要用于處理旋涂機(jī)、掩模對(duì)準(zhǔn)機(jī)和實(shí)驗(yàn)室機(jī)器，為開發(fā)和蝕刻研究提供支持。在實(shí)際應(yīng)用中，該產(chǎn)品最大可處理φ4英寸晶圓或75×75mm基板，能滿足相關(guān)科研和生產(chǎn)中對(duì)于較小尺寸基板的旋涂工藝需求，例如在半導(dǎo)體研究、微納加工等領(lǐng)域，可用于在基板上均勻涂布光刻膠等材料，以進(jìn)行后續(xù)的光刻、蝕刻等工藝步驟，從而制作微小的電路圖案或結(jié)構(gòu)。

產(chǎn)品特征

電機(jī)性能**

MS - B100采用AC伺服電機(jī)且無(wú)刷。這種設(shè)計(jì)在防止?jié)崈羰椅廴痉矫婢哂谐錾男阅?，因?yàn)闊o(wú)刷電機(jī)減少了因電刷摩擦產(chǎn)生的顆粒污染，符合潔凈室對(duì)環(huán)境潔凈度的嚴(yán)格要求。同時(shí)，它還能減少電機(jī)的發(fā)熱，有效防止連續(xù)使用時(shí)的溫度升高，保證了設(shè)備在長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行過(guò)程中的穩(wěn)定性，避免因溫度變化對(duì)涂布工藝造成影響。

精度高

該產(chǎn)品的旋轉(zhuǎn)精度達(dá)到±1rpm（負(fù)載時(shí)），這意味著在負(fù)載的情況下，電機(jī)的轉(zhuǎn)速能夠穩(wěn)定在極小的誤差范圍內(nèi)，保證了旋涂過(guò)程中基板旋轉(zhuǎn)速度的準(zhǔn)確性，進(jìn)而有利于提高膜厚的均勻性和再現(xiàn)性。這對(duì)于對(duì)膜厚精度要求較高的光刻等工藝來(lái)說(shuō)至關(guān)重要，能夠確保產(chǎn)品質(zhì)量的穩(wěn)定性和一致性。

模式設(shè)置靈活

MS - B100具有100步x10種模式的步進(jìn)模式數(shù)量，并且時(shí)間設(shè)置可達(dá)999.9秒。用戶可以根據(jù)不同的涂布工藝需求，靈活設(shè)置旋轉(zhuǎn)的步數(shù)、每一步的轉(zhuǎn)速以及旋轉(zhuǎn)時(shí)間等參數(shù)，實(shí)現(xiàn)多樣化的旋涂工藝，以適應(yīng)不同材料、不同厚度的涂布要求。

規(guī)格合理

從規(guī)格參數(shù)來(lái)看，其紡絲室直徑為φ220mm，這個(gè)尺寸能夠?yàn)榛宓男D(zhuǎn)提供合適的空間，同時(shí)也便于對(duì)涂布過(guò)程進(jìn)行觀察和控制。此外，該產(chǎn)品使用的真空壓力范圍為 - 0.08～ - 0.1MPa，能夠可靠地吸附基板，確保在高速旋轉(zhuǎn)過(guò)程中基板的穩(wěn)定性，防止基板在旋涂過(guò)程中發(fā)生位移或晃動(dòng)。

適用電源廣泛

MS - B100的電源為AC100~240V 5A，這使得該產(chǎn)品能夠適應(yīng)不同地區(qū)、不同供電條件的使用環(huán)境，提高了設(shè)備的通用性和適用性，方便用戶在不同的實(shí)驗(yàn)或生產(chǎn)場(chǎng)所使用。

規(guī)格參數(shù)

一、基礎(chǔ)技術(shù)參數(shù)

1. 轉(zhuǎn)速范圍與精度

• 轉(zhuǎn)速范圍：50 - 3,000 rpm（可擴(kuò)展至5,000 rpm高速旋轉(zhuǎn)）

• 轉(zhuǎn)速精度：±1 rpm（全范圍高精度控制）

2. 時(shí)間控制

• 旋轉(zhuǎn)時(shí)間設(shè)定：0.2秒 - 999.9秒（可精確控制膜厚均勻性）

3. 基板兼容性

• 最大基板尺寸：4英寸（75×75mm）或5英寸圓形基板

• 適用基板類型：硅晶圓、方形基板（需專用載臺(tái)）

4. 真空系統(tǒng)

• 標(biāo)配數(shù)字真空計(jì)，工作壓力：0.3 MPa（上部氣缸）

• 真空吸附壓力范圍：0.08 - 0.1 MPa

• 
  

二、核心功能與技術(shù)優(yōu)勢(shì)

1. 膜厚控制

• 通過(guò)精確的轉(zhuǎn)速-時(shí)間編程實(shí)現(xiàn)膜厚可調(diào)（需配合光刻膠粘度參數(shù)）。

2. 編程能力

• 支持100階段程序設(shè)定，可存儲(chǔ)10種預(yù)設(shè)模式。

3. 無(wú)刷電機(jī)技術(shù)

• 避免無(wú)塵室污染，減少電機(jī)發(fā)熱對(duì)膜厚再現(xiàn)性的影響。

4. 安全設(shè)計(jì)

• 真空壓力與防護(hù)蓋聯(lián)動(dòng)安全裝置，緊急停止功能。

• 
  

三、應(yīng)用領(lǐng)域

1. 半導(dǎo)體制造：光刻膠旋轉(zhuǎn)涂布（Photoresist Spin Coating）。

2. 實(shí)驗(yàn)室研發(fā)：均勻涂布低粘度液體（如電子材料、納米涂層）。

   
   

四、選配件與擴(kuò)展功能

• 滴下裝置：可選配MS-A150/MS-A200型號(hào)，實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化液體滴加。

• 方形基板定位：支持停止位置設(shè)定，提升異形基板兼容性

日本MIKASA米卡薩旋涂均膠機(jī)

日本MIKASA米卡薩株式會(huì)社 日本MIKASA株式會(huì)社中國(guó)代理: MIKASA光刻機(jī).旋轉(zhuǎn)塗鈽機(jī)，真空泵日本MIKASA株式會(huì)社中國(guó)代理: MIKASA光刻機(jī).旋轉(zhuǎn)塗怖機(jī)，真空泵日本MIKASA株式會(huì)社中國(guó)代理: MIKASA光刻機(jī).旋轉(zhuǎn)塗鈽機(jī)，真空泵 半導(dǎo)體制造工序中的Mikasa半導(dǎo)體設(shè)備

晶園、洗滌**晶園表面的臟污及

 各種金屬離子、成膜

 在高溫?cái)U(kuò)散爐中，形成、表面氧化膜

 電路圖案設(shè)計(jì)、運(yùn)用CAD制作布局、布線設(shè)計(jì)圖。制作光掩膜將電路圖案沖印到中間掩、模上(原版照片)

 光刻膠涂布、將光刻膠(感光材料)涂抹到晶圓表面，形成厚度均一的薄膜。

旋轉(zhuǎn)涂膜儀(P4~P11) 將光掩膜與晶園重合，復(fù)制電路

光刻機(jī)(P13~P15)

 MIKASA米卡薩旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)可選組件

顯影、去除曝光部位(正膠)的光刻膠。

 顯影裝置(P17. 18)、蝕刻

 通過(guò)腐蝕氧化膜來(lái)蝕刻電路。

 蝕刻裝置(P19)

 離子注入/濺射

 向晶園注入離子(混雜物)

 滴液裝置可選組件 吸盤

 ●MS-B100/ MS-B150

 ●MS-B200

 ●MS-B300

 ●MS-B200 (密閉型)

 ●MS-B300 (密閉型)

日本MIKASA光刻機(jī)

MA-10　

●MA-20

●MA-60F

●M-2LF　

●M-1S

 日本MIKASA曝光，將光掩膜與晶園重合，復(fù)制電路圖案。

 日本MIKASA顯影、蝕刻裝置DeveloperEtching

 日本MIKASA旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)MS-A150/MS-B150現(xiàn)貨現(xiàn)貨旋轉(zhuǎn)涂膜儀

 去除曝光部位(正膠)的光刻膠。

 ●AD-1200

 ●AD-3000

 ●PD-1000

 日本MIKASA蝕刻裝置蝕刻裝置

 ●ED-1200

 ●ED-3000

 日本Mikasa為半導(dǎo)體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、曝光、顯影、蝕刻等半導(dǎo)體制造前段工序所需要的裝置后，提供一站式服務(wù)。另外，為旋轉(zhuǎn)涂膜儀的所有機(jī)型準(zhǔn)備了替代用機(jī)，可在發(fā)生故障時(shí)盡早應(yīng)對(duì)，且在銷售后提供快捷周到的售后服務(wù)。針對(duì)研究過(guò)程中所發(fā)生的一系列問(wèn)題，也可在現(xiàn)場(chǎng)提出解決建議。與客戶共同探討在哪個(gè)工序出現(xiàn)了問(wèn)題、應(yīng)如何改進(jìn)等等，從而得出解決建議。Mikasa 作為一個(gè)可在半導(dǎo)體方面進(jìn)行共同商談的咨詢顧問(wèn)不僅銷售設(shè)備，而是為客戶半導(dǎo)體制造的整體工藝流程。將光刻膠(感光材料)涂抹到晶圓表面，形成厚度均一的薄膜。

日本Mikasa為半導(dǎo)體制造工序提供支持的Mikasa備齊光刻膠涂布、曝光、顯影、蝕刻等半導(dǎo)體制造前段工序所需要的裝置后，晶圓涂抹提供一站式服務(wù)。

日本Mikasa 半導(dǎo)體用設(shè)備 旋涂機(jī)

MS-B100

MS-B150

MS-B200

MS-B300

MS-B200

密閉型MS-B300

 密閉型MA-20

MA-10B

 MA-60F

 M-2LF

 M-1S

AD-1200

AD-3000

ED-1200

代理銷售各類工業(yè)品:，USHIO牛尾（點(diǎn)光源）CCS西西愛視，AITEC艾泰克（光箱、光源、圓形環(huán)形光），LEIMAC 雷馬克、HOYA光源

，REVOX萊寶克斯，Hitachi日立科學(xué)儀器、SIMCO思美高（離子棒），SSD西西蒂(離子風(fēng)扇)，KASUGA春日(離子棒)、MUSASHI武藏點(diǎn)膠機(jī)（點(diǎn)膠機(jī)）,Nordson諾信EFD（點(diǎn)膠機(jī)），IEI巖下（點(diǎn)膠機(jī)），EPSON愛普生機(jī)器人，KURABO倉(cāng)紡（脫泡機(jī)），日本THINKY新基脫泡機(jī)，TAGAWA十川（軟管），SHOWA昭和電機(jī)（鼓風(fēng)機(jī)），TSUBAKI椿本鏈條，KIKUSUI菊水（電源），CEDAR思達(dá)（扭力測(cè)試儀），MEISEI邁澤（電熱剝線器）、artray相機(jī)、TAKASAGO高砂制作所（直流電源）、RION理音（測(cè)振儀）、HOKUTO DENKO北斗電工、TML東京測(cè)器、SIGMAKOKI西格瑪光機(jī)、FLOWELL 福威、ASAHI旭有機(jī)材、KYOWA共和（應(yīng)變片）、ONOSOKKI小野（傳感器）、FUJIKURA藤倉(cāng)（單向閥）、SK新瀉精機(jī)（水平測(cè)量尺）SKSATO佐藤（溫度記錄儀）、TECLOCK得樂（硬度計(jì)）、AND愛安得（電子天平）、KEM京都電子（水分儀）、TOHNICHI東日（扭力扳手）、ULVAC愛發(fā)科泵、IWAKI易威奇、SAN-EI三英(點(diǎn)膠閥）（泵）、kashiyama柏山（干式泵）、MARUYAMA丸山(泵)、、Kanetec強(qiáng) 力(高斯計(jì))、SAKURAI櫻井(無(wú)塵紙)、NIRECO尼利可(傳感器)、TOFCO東富科(流量計(jì))、eoptics頤光科技(反射膜厚儀)、TOKYO KEISO東京計(jì)裝(超聲波液位計(jì))、RKC理化工業(yè)(數(shù)顯控制器)、YAMATO雅瑪拓（恒溫箱）、YAMADA雅瑪達(dá)(隔膜泵)、KOFLOC小島(浮子流量計(jì)）、KITZ開滋(閥門)、CKD喜開理(氣缸)、NYS西村化工(半導(dǎo)體)、三菱重工MHI 蝸輪減速機(jī)、Kanomax加野、PISCO碧士克、TOYO光通信器、FUJILATEX***精器、MIKI PULLEY三木普利、KONSEI近藤製作所 、SGK昭和技研、KOSEMK考世美、shibuya澀谷光學(xué)、hakko八光電機(jī)、Iwasaki巖崎、OTSUKA大塚電子（光學(xué)膜厚儀）、KOSAKA小坂（臺(tái)階儀）、HORIBA堀場(chǎng)儀器（分析儀）、SIBATA柴田科學(xué)（環(huán)境測(cè)定）、TORAY東麗濃度儀（氧氣分析儀）、yamada山田鹵素強(qiáng)光燈、CEDAR思達(dá)、MIKASA米卡薩（旋涂設(shè)備、顯影）、POLARION普拉瑞、otsuka大塚（膜厚儀、粒度儀）、Tsubosaka壺坂電機(jī),IMV愛睦威,PISCO匹士克接頭,hakko八光電機(jī),lambda拉姆達(dá)膜厚